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原位红外高温高压漫反射池池体采用316L不锈钢材质，最高耐温500℃，耐压3MPa；哈氏合金材质，最高耐温800℃，耐腐蚀； 可以配备高精度触摸屏温控仪进行精确控温和加热，同时利用冷却循环装置对反应池外部进行降温； 腔帽有三个窗口，其中两个为红外窗口，一个为石英窗口，用于引入外部光源（光催化激发光源）或作为观察窗口使用。
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原位红外漫反射附件： 采用两个6.3:1，90°镀金离轴椭球面，能量反射率更高且镜面更耐腐蚀; 可减小镜面反射的影响; 搭配带有滑轨的底板可调节漫反射附件的位置，以便于提高漫反射附件的光通量; 镀金平面镜偏转调节装置可调节漫反射附件的光通量，减少漫反射光中镜面反射光的分量和相关光谱的失真; 能适配漫反射反应池实现不同环境下研究材料的反应。
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高低温漫反射池： 设计温度：-150℃~300℃； 设计压力：负压（-150℃~RT），3MPa（RT~300℃）； 池体材质：池体池盖 316L； 窗片材质：石英； 温控装置：程序控温、触摸屏操作（含配套软件）； 装置设置进出气口，可通入气体； 预留水冷接口，配水冷机，对池体外侧温度进行保护； 配备液氮罐液氮泵，控制液氮流速；
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762产品描述
原位红外漫反射系统是利用傅里叶变换红外光谱仪对催化剂或物料在多环境下的性能进行原位评价的设备。可方便地跟踪鉴定反应中间态和产物，从而为催化反应体系反应机理的考察给出直接的证据。原位红外漫反射主要用于气固相催化的表征和催化反应的研究，如催化剂表面羟基的鉴别、催化剂表面物种吸附态研究、催化剂表面酸碱性的表征。
