简要描述：本原位池采用石墨片焦耳电阻加热方案，搭配红外非接触测温探头，最高工作温度 1600℃，集成水冷腔体、X 射线透射窗口，实现原位、实时、连续采集高温下材料物相、相变、晶型演变，用于陶瓷、合金、催化剂、耐火材料、储能材料等高温结构与反应过程研究。1600℃ 高温XRD原位池-反应装置

产品介绍：

         本原位池采用石墨片焦耳电阻加热方案，搭配红外非接触测温探头，最高工作温度 1600℃，集成水冷腔体、X 射线透射窗口，实现原位、实时、连续采集高温下材料物相、相变、晶型演变，用于陶瓷、合金、催化剂、耐火材料、储能材料等高温结构与反应过程研究。

产品参数：

• 池体材质：SUS316L 

• 加热方式：石墨焦耳加热，焦耳直接加热，热惯性小，恒温稳定、降温快 

• 样品台：石墨舟 窗口：聚酰亚胺膜，X 射线透过率高，衍射信号损失小；窗口耐高温、抗热冲击 

• 测试温度：300℃-1600℃（氮气环境） 

• 测温方式：红外探头，无接触测温，没有热电偶丝遮挡 X 射线、不污染样品， 不存在高温下热电偶失效、断线问题，捕捉快速热过程温度变化，红外光路独立， 不干涉 X 射线光路，不引入额外散射背景。 

• 控温精度：±0.1℃ 

• 温度均匀性：±1℃ 

• 池体外表面温度：≤40℃ 

• 气氛：氮气（不可空气或氧气环境） 

• 水冷配置：1400W 循环水冷机，水冷设计，保护外部腔体、窗口，高温工况下腔 体外部低温，保障设备安全 

• 温控装置：定制温控仪，程序温控，触摸屏操作（含配套软件） 加热速率可调，最高可达 50℃/min，可设置多段温区程序。 

• 其他：可加配红外相机窗口

1600℃ 高温XRD原位池-反应装置

1600℃ 高温XRD原位池-反应装置